Holandski ASML bi mogao da poveća proizvodnju čipova za 50 odsto do 2030.

AMSTERDAM  - Holandska kompanija ASML predstavila je danas tehnološki napredak u izvoru svetlosti za svoje EUV (ekstremno ultraljubičaste) litografske mašine kojim bi mogla da uveća proizvodnju čipova za čak 50 odsto do 2030. godine.

Kompanija je uspela da poveća snagu EUV izvora sa 600 na 1.000 vati, što omogućava bržu obradu silicijumskih ploča (vafera) i niže troškove po čipu.

Do kraja decenije, mašine bi mogle da obrađuju oko 330 ploča na sat, u odnosu na sadašnjih 220, prenosi Rojters.

Tehnološki proboj postignut je udvostručavanjem broja kapljica kalaja koje se zagrevaju laserom kako bi se proizvela plazma koja emituje EUV svetlost, kao i uvođenjem dodatnog laserskog impulsa za preciznije oblikovanje plazme.

Pošto je ASML jedini komercijalni proizvođač EUV litografskih sistema - ključnih za napredne čipove koje proizvode kompanije kao što su TSMC i Intel - ovaj napredak bi dodatno učvrstio njegovu prednost u odnosu na američke i kineske konkurente.

Kompanija veruje da postoji jasan put ka povećanju snage EUV na 1.500, pa čak i 2.000 vati u budućnosti, što bi dodatno povećalo efikasnost i kapacitete proizvodnje čipova.